top of page
  • Linkedin
  • Instagram
  • X
silicon wafers and microcircuits with automation system control application on automate ro

Mokre Ławki   

Wet Bench / Nassbank

Stacja Manualna do Pracy z Rozpuszczalnikami (Solvent Wet Bench)

Stacje Manualne  Rozpuszczalniki & Wywoływacze

  • Do małych ilości wyjściowych

  • Ekonomiczne

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

Stacja Manualna do Pracy z Kwasami

Stacje Manualne Kwasy & i inne substancje chemiczne

  • Do małych ilości wyjściowych

  • Ekonomiczne

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

Acid Wet bench

Stacje Manualne Kwasy & i inne substancje chemiczne

  • Przepływ Laminarny

  • Do małych ilości wyjściowych

  • Ekonomiczne

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

Stacja Manualna do pracy z rozpuszczalnikami i wywoływaczami

Stacje Manualne Rozpuszczalniki & Wywoływacze

  • Przepływ Laminarny

  • Do małych ilości wyjściowych

  • Ekonomiczne

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

Stacje Automatyczne

Stacje Automatyczne

  • Do dużych ilości wyjściowych

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

  • Do procesów z kwasami, rozpuszczalnikami i wywoływaczem

Silicon Wafers and Microcircuits, Automation system control application on automate robot.

Stacje Pólautomatyczne

  • Do średnich/dużych ilości wyjściowych

  • Budowane na zamówienie

  • Możliwość rozbudowy

  • Do procesów z kwasami, rozpuszczalnikami i wywoływaczem

Chemical Supply & Drainage Systems

Stacje dostarczające i odprowadzające

  • Wyposażenie do bezpiecznego dozowania 

  • Wyposażenie do bezpiecznego odprowadzania 

  • Recyrkulacja i Filtracja

  • Kwasy, Zasady, Rozpuszczalniki

Dedykowane systemy przeciwpożarowe

Dedykowane systemy przeciwpożarowe i gaśnicze

  • Dostosowane do ławek manualnych czy automatycznych

  • Możliwości ochrony wielopoziomowej

Silicon Wafers and Microcircuits, Automation system control application on automate robot.

Funkcje Mokrych Ławek 

Functionality You Will Love

Czyszczenie

Procesy czyszczenia z wykorzystaniem czystych środków chemicznych wymagają odpowiednich rozwiązań w zakresie czystego sprzętu z zaawansowaną interakcją powierzchni i struktury.

Usuwanie fotorezystu (PR)

Technika usuwania fotorezystu, znana również jako “stripping” fotorezystu, polega na usunięciu niepożądanych warstw fotorezystu z powierzchni wafla.

Suszenie

Suszenie oraz suszenie

Marangoniego.

Napięcie powierzchniowe wody ma unikalną właściwość, gdy wafle są powoli wyciągane przez powierzchnię wody: 

Wytrawianie

Procesy trawienia różnych materiałów wymagają sprzętu zoptymalizowanego pod kątem produktu i substancji używanej do trawienia

Używanie wywoływacza

Technika rozwijania struktury rezystu znajduje szerokie zastosowanie w różnych dziedzinach, szczególnie w elektronice i mikroelektronice.

Lift-off

Procedura “lift-off” to technika stosowana w mikroelektronice do tworzenia wzorów na powierzchni podłoża, takich jak wafle półprzewodnikowe.

Formularz kontaktowy

Dziękujemy za przeslanie formularza!

Polska

Tel. +44 7795 361987

© 2025 Website designed and created by Rafal Plewko

  • LinkedIn
bottom of page