

Mokre Ławki
Wet Bench / Nassbank

Stacje Manualne Rozpuszczalniki & Wywoływacze
-
Do małych ilości wyjściowych
-
Ekonomiczne
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy

Stacje Manualne Kwasy & i inne substancje chemiczne
-
Do małych ilości wyjściowych
-
Ekonomiczne
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy

Stacje Manualne Kwasy & i inne substancje chemiczne
-
Przepływ Laminarny
-
Do małych ilości wyjściowych
-
Ekonomiczne
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy

Stacje Manualne Rozpuszczalniki & Wywoływacze
-
Przepływ Laminarny
-
Do małych ilości wyjściowych
-
Ekonomiczne
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy

Stacje Automatyczne
-
Do dużych ilości wyjściowych
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy
-
Do procesów z kwasami, rozpuszczalnikami i wywoływaczem
Stacje Pólautomatyczne
-
Do średnich/dużych ilości wyjściowych
-
Budowane na zamówienie
-
Możliwość rozbudowy
-
Do procesów z kwasami, rozpuszczalnikami i wywoływaczem

Stacje dostarczające i odprowadzające
-
Wyposażenie do bezpiecznego dozowania
-
Wyposażenie do bezpiecznego odprowadzania
-
Recyrkulacja i Filtracja
-
Kwasy, Zasady, Rozpuszczalniki

Dedykowane systemy przeciwpożarowe i gaśnicze
-
Dostosowane do ławek manualnych czy automatycznych
-
Możliwości ochrony wielopoziomowej

Funkcje Mokrych Ławek
Functionality You Will Love
Czyszczenie
Procesy czyszczenia z wykorzystaniem czystych środków chemicznych wymagają odpowiednich rozwiązań w zakresie czystego sprzętu z zaawansowaną interakcją powierzchni i struktury.
Usuwanie fotorezystu (PR)
Technika usuwania fotorezystu, znana również jako “stripping” fotorezystu, polega na usunięciu niepożądanych warstw fotorezystu z powierzchni wafla.
Suszenie
Suszenie oraz suszenie
Marangoniego.
Napięcie powierzchniowe wody ma unikalną właściwość, gdy wafle są powoli wyciągane przez powierzchnię wody:
Wytrawianie
Procesy trawienia różnych materiałów wymagają sprzętu zoptymalizowanego pod kątem produktu i substancji używanej do trawienia
Używanie wywoływacza
Technika rozwijania struktury rezystu znajduje szerokie zastosowanie w różnych dziedzinach, szczególnie w elektronice i mikroelektronice.
Lift-off
Procedura “lift-off” to technika stosowana w mikroelektronice do tworzenia wzorów na powierzchni podłoża, takich jak wafle półprzewodnikowe.